Đề kiểm tra 15 phút Hóa 10 Chương 7: Nguyên tố nhóm Halogen

Đơn chất halogen đều có tính oxi hóa mạnh và tính oxi hóa giảm dần từ fluorine đến iodine.

Khi phản ứng với phi kim, các nguyên tử halogen thể hiện xu hướng góp chung electron. 

Nhiệt độ nóng chảy, nhiệt độ sôi tăng từ F₂ đến I₂ do:

- Tương tác van der Waals giữa các phân tử tăng.

- Khối lượng phân tử tăng.

Phản ứng

AgNO₃ + NaBr → AgBr + NaNO₃,

Hiện tượng: xuất hiện kết tủa màu vàng nhạt

 Cấu hình electron của nguyên tử Cl (Z = 17) là [Ne]3s²3p⁵

Nguyên nhân chủ yếu làm tăng độ mạnh của các acid theo dãy trên là do sự giảm độ bền liên kết theo thứ tự HF, HCl, HBr, HI.

Sơ đồ phản ứng:

Theo bảo toàn khối lượng ta có:

m_O2 = m_oxide – m_{kim loại} = 3,33 – 2,13 = 1,2 gam

⇒ n_O2 = 0,0375 mol

⇒ n_O = 2.n_O2 = 0,075 mol

Từ sơ đồ ta thấy: n_{O (oxide)} = n_{O (H2O)}

⇒ n_H2O = 0,075 (mol)

⇒ n_HCl = 2n_H2O = 0,15 mol

⇒ V_dd = 0,15:2 = 0,075 (lít) = 75 (ml)

Hiện tượng xảy ra trong các ống 1, 2, 3, 4 là: Không có hiện tượng, có kết tủa trắng, có kết tủa vàng, có kết tủa vàng đậm.

Phương trình phản ứng xảy ra:

NaF(aq) + AgNO₃(aq) → không xảy ra phản ứng.

NaCl(aq) + AgNO₃(aq) → AgCl(s)↓ _{(màu trắng)} + NaNO₃(aq).

NaBr(aq) + AgNO₃(aq) → AgBr(s)↓ _{(màu vàng)} + NaNO₃(aq).

NaI(aq) + AgNO₃(aq) → AgI(s)↓ _{(màu vàng đậm)} + NaNO₃(aq).

Trong tất cả các hợp chất, F chỉ có số oxi hóa -1 do F có độ âm điện lớn nhất.

Các nguyên tố halogen khác ngoài số oxi hóa -1 còn có các số oxi hóa +1; +3; +5; +7

Khối lượng khí clo cần dùng là: 200.3.106.5 = 3.106 (g) = 3,103 (kg)

Phương trình hóa học:

4HF + SiO₂ ⟶ SiF₄ + 2H₂O. 

AgNO₃(aq) + HF(aq) ⟶ Không xảy ra phản ứng.

Do đó, không có hiện tượng xảy ra.

Các phương trình hóa học:

Mg + Cl₂ → MgCl₂          (1)

2Al + 3Cl₂ → AlCl₃          (2)

3Mg + O₂ → 2MgO         (3)

4Al + 3O₂ → 2AlO₃         (4)

m_{muối +} m_oxide = m_KL + m_Cl- + m_O- = 37, 05

⇒ m_Cl- + m_O- = 37,05 – (4,80 + 8,10) = 24, 15 (gam)

n_Mg = 4,8/24 = 0,2 (mol); n_Al = 8,1/27 = 0,3 (mol)

Gọi số mol O₂ và Cl₂ trong hỗn hợp lần lượt là x, y (mol):

Phương trình nhường e:

Al → Al³⁺ + 3e

Mg → Mg²⁺ + 2e

n_{e nhường} = 0,2.2 + 0,3.3 = 1,3 (mol)

Phương trình nhận e:

O₂ + 4e → 2O^-

 x → 4x → 2x

Cl₂ + 2e → 2Cl^-

 y → 2y → 2y

n_{e nhận} = 4x + 2y ⇒ 4x + 2y = 1,3                  (1)

m_O- + m_Cl- = 16.2x + 35,5.2y = 24,15           (2)

Từ (1) và (2) ta có x = 0,2; y = 0,25

%m_Cl2 = 100% – 26,5% = 73,5%

Dung dịch HF có khả năng ăn mòn SiO₂ (thành phần chính của thủy tinh) nên được dùng để khắc chữ lên thủy tinh.

Phương trình hóa học

4HF + SiO₂ → SiF₄ + 2H₂O

Trong công nghiệp, người ta điều chế khí Cl₂ bằng cách điện phân dung dịch bão hòa NaCl trong nước, có màng ngăn (hoặc điện phân nóng chảy NaCl).

2NaCl + 2H₂O 2NaOH + H₂ + Cl₂

M là kim loại Fe

Phương trình phản ứng minh họa

2Fe + 3Cl₂  2FeCl₃ (X)

Fe + 2HCl   FeCl₂(Y) + H₂↑

Fe + 2FeCl₃ (X) 3FeCl₂(Y)

2KMnO₄ + 16HCl → 2KCl + 2MnCl₂ + 5Cl₂ + 8H₂O

Theo phương trình hóa học:

n_KMnO4 = 2/5.n_Cl2 = 0,06 mol

m_KMnO4 = 0,06.158 = 9,48 gam

Hydrohalic acid thường được dùng để đánh sạch bề mặt kim loại trước khi sơn, hàn, mạ điện là HCl